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1,什么叫失效分析能力

简单来说,就是: 东西坏了,找到是什么坏了,搞明白是怎么坏的,提出手段防止未来再坏。 能做到上面这些,就是失效分析能力。

什么叫失效分析能力

2,失效分析是什么

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失效分析是什么

3,什么是失效分析

失效分析是人们认识事物本质和发展规律的逆向思维和探索,是变失效为安全的基本环节和关键,是人们深化对客观事物的认识源头和途径。
去看看: http://baike.baidu.com/view/832127.htm

什么是失效分析

4,什么是失效分析

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5,discovery analysis 和validation analysis分别是什么意思

失效分析failure analysis更多释义>>[网络短语]失效分析 Failure Analysis;Invalidation Analysis;Fault Analysis失效分析技术线路 Technique approach of failure analysis失效分析的目标 The objectives of failure analysis
同问。。。

6,什么叫失效分析能力

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7,金属失效分析有什么作用

和其他材料失效分析一样,金属失效分析就是分析金属与案件在使用过程中失效的原因以及推测可能发生的后果,并且给出合理的改正意见。金属失效还是影响蛮巨大的,不管是对机器的损害还是对人员的伤害事故,都不是企业希望看到的,因此建议你碰到金属原件失效还是找英格尔检测这样的机构做一下失效分析更好。
金属原件失效的话可能会有很严重的结果,所以要做失效分析。就是分析金属失效的原因,导致失效的可能性进行推测,并且给出合理的解释以及解决办法。有些不注重失效分析,但是作为一门发展时间并不长的学科,失效分析的作用是巨大的。你可以找英格尔检测机构这样的第三方检测机构进行分析,帮助你解决实际生产中金属失效的原因,望采纳

8,失效分析方法主要有哪几种

失效分析方法主要有五种,分别是:1、外观检查。外观检查就是目测或利用一些简单仪器,如立体显微镜、金相显微镜甚至放大镜等工具检查PCB的外观,寻找失效的部位和相关的物证,主要的作用就是失效定位和初步判断PCB的失效模式。2、X射线透视检查。对于某些不能通过外观检查到的部位以及PCB的通孔内部和其他内部缺陷,只好使用X射线透视系统来检查。X光透视系统就是利用不同材料厚度或是不同材料密度对X光的吸湿或透过率的不同原理来成像。3、切片分析。切片分析就是通过取样、镶嵌、切片、抛磨、腐蚀、观察等一系列手段和步骤获得PCB横截面结构的过程。通过切片分析可以得到反映PCB(通孔、镀层等)质量的微观结构的丰富信息,为下一步的质量改进提供很好的依据。4、扫描电子显微镜分析。扫描电子显微镜(SEM)是进行失效分析的一种最有用的大型电子显微成像系统,其工作原理是利用阴极发射的电子束经阳极加速。扫描电镜图像景深远远大于光学显微镜,是针对金相结构、显微断口以及锡须等不平整样品的重要分析方法。5、光电子能谱(XPS)分析。样品受X射线照射时,表面原子的内壳层电子会脱离原子核的束缚而逸出固体表面形成电子,测量其动能Ex,可得到原子的内壳层电子的结合能Eb,Eb因不同元素和不同电子壳层而异,它是原子的“指纹”标识参数,形成的谱线即为光电子能谱(XPS)。

9,什么是失效分析

失效分析是一门发展中的新兴学科,近年开始从军工向普通企业普及。它一般根据失效模式和现象,通过分析和验证,模拟重现失效的现象,找出失效的原因,挖掘出失效的机理的活动。在提高产品质量,技术开发、改进,产品修复及仲裁失效事故等方面具有很强的实际意义。其方法分为有损分析,无损分析,物理分析,化学分析等。早期失效率高的原因是产品中存在不合格的部件;晚期失效率高的原因是产品部件经长期使用后进入失效期。机械产品中的磨合、电子元器件的老化筛选等就是根据这种失效规律而制定的保证可靠性的措施。扩展资料:失效分析的主要分类:1、 狭义的失效分析:主要目的在于找出引起产品失效的直接原因。2、广义的失效分析:不仅要找出引起产品失效的直接原因,而且要找出技术管理方面的薄弱环节。3、新品研制阶段的失效分析:对失效的研制品进行失效分析。4、产品试用阶段的失效分析:对失效的试用品进行失效分析。5、定型产品使用阶段的失效分析:对失效的定型产品进行失效分析。参考资料来源:搜狗百科-失效分析
定义:失效分析是指分析研究构件的断裂,表面损伤及变形等失效现象的特征及规律的一门技术。一、失效及其常见形式:机械构件由于组织与性能发生变化而引起不能完成指定功能时,称之为失效。最常见的失效形式有机械力破坏、腐蚀性破坏、高温破坏。二、失效分析及其意义:失效分析是指分析研究构件的断裂,表面损伤及变形等失效现象的特征及规律的一门技术。意义:失效分析对改进产品设计,选材等提供依据,并防止或减少断裂事故发生;通过失效分析还可以预测可靠性;可以提高机械产品的信誉,并能起到技术反馈作用。
正常工作的零件,无论是变形或断裂,导致无法正常应用,失去了功效,就要进行分析,以便改进提高,这个过程就叫失效分析。
失效分析是人们认识事物本质和发展规律的逆向思维和探索,是变失效为安全的基本环节和关键,是人们深化对客观事物的认识源头和途径。
零部件在服役过程中失去了正常功能,不能继续使用的现象叫做失效,通常的失效有断裂(或裂纹)、变形、磨损、腐蚀等。对零部件失效原因进行分析的过程就叫失效分析。

10,怎样进行芯片失效分析

一般来说,集成电路在研制、生产和使用过程中失效不可避免,随着人们对产品质量和可靠性要求的不断提高,失效分析工作也显得越来越重要,通过芯片失效分析,可以帮助集成电路设计人员找到设计上的缺陷、工艺参数的不匹配或设计与操作中的不当等问题。失效分析的意义主要表现具体来说,失效分析的意义主要表现在以下几个方面: 失效分析是确定芯片失效机理的必要手段。 失效分析为有效的故障诊断提供了必要的信息。 失效分析为设计工程师不断改进或者修复芯片的设计,使之与设计规范更加吻合提供必要的反馈信息。 失效分析可以评估不同测试向量的有效性,为生产测试提供必要的补充,为验证测试流程优化提供必要的信息基础。失效分析主要步骤和内容芯片开封:去除IC封胶,同时保持芯片功能的完整无损,保持 die,bond pads,bond wires乃至lead-frame不受损伤,为下一步芯片失效分析实验做准备。SEM 扫描电镜/EDX成分分析:包括材料结构分析/缺陷观察、元素组成常规微区分析、精确测量元器件尺寸等等。探针测试:以微探针快捷方便地获取IC内部电信号。镭射切割:以微激光束切断线路或芯片上层特定区域。EMMI侦测:EMMI微光显微镜是一种效率极高的失效分错析工具,提供高灵敏度非破坏性的故障定位方式,可侦测和定位非常微弱的发光(可见光及近红外光),由此捕捉各种元件缺陷或异常所产生的漏电流可见光。OBIRCH应用(镭射光束诱发阻抗值变化测试):OBIRCH常用于芯片内部高阻抗及低阻抗分析,线路漏电路径分析。利用OBIRCH方法,可以有效地对电路中缺陷定位,如线条中的空洞、通孔下的空洞。通孔底部高阻区等,也能有效的检测短路或漏电,是发光显微技术的有力补充。LG液晶热点侦测:利用液晶感测到IC漏电处分子排列重组,在显微镜下呈现出不同于其它区域的斑状影像,找寻在实际分析中困扰设计人员的漏电区域(超过10mA之故障点)。定点/非定点芯片研磨:移除植于液晶驱动芯片 Pad上的金凸块, 保持Pad完好无损,以利后续分析或rebonding。X-Ray 无损侦测:检测IC封装中的各种缺陷如层剥离、爆裂、空洞以及打线的完整性,PCB制程中可能存在的缺陷如对齐不良或桥接,开路、短路或不正常连接的缺陷,封装中的锡球完整性。
一般来说,集成电路在研制、生产和使用过程中失效不可避免,随着人们对产品质量和可靠性要求的不断提高,失效分析工作也显得越来越重要,通过芯片失效分析,可以帮助集成电路设计人员找到设计上的缺陷、工艺参数的不匹配或设计与操作中的不当等问题。失效分析的意义主要表现具体来说,失效分析的意义主要表现在以下几个方面: 失效分析是确定芯片失效机理的必要手段。 失效分析为有效的故障诊断提供了必要的信息。 失效分析为设计工程师不断改进或者修复芯片的设计,使之与设计规范更加吻合提供必要的反馈信息。 失效分析可以评估不同测试向量的有效性,为生产测试提供必要的补充,为验证测试流程优化提供必要的信息基础。失效分析主要步骤和内容芯片开封:去除ic封胶,同时保持芯片功能的完整无损,保持 die,bond pads,bond wires乃至lead-frame不受损伤,为下一步芯片失效分析实验做准备。sem 扫描电镜/edx成分分析:包括材料结构分析/缺陷观察、元素组成常规微区分析、精确测量元器件尺寸等等。探针测试:以微探针快捷方便地获取ic内部电信号。镭射切割:以微激光束切断线路或芯片上层特定区域。emmi侦测:emmi微光显微镜是一种效率极高的失效分错析工具,提供高灵敏度非...缺陷观察。定点/,为生产测试提供必要的补充:利用液晶感测到ic漏电处分子排列重组,为验证测试流程优化提供必要的信息基础,封装中的锡球完整性。探针测试、生产和使用过程中失效不可避免、爆裂一般来说、短路或不正常连接的缺陷。失效分析主要步骤和内容芯片开封,如线条中的空洞、工艺参数的不匹配或设计与操作中的不当等问题;edx成分分析:以微探针快捷方便地获取ic内部电信号,同时保持芯片功能的完整无损,开路: 失效分析是确定芯片失效机理的必要手段。 失效分析为设计工程师不断改进或者修复芯片的设计:检测ic封装中的各种缺陷如层剥离,线路漏电路径分析,在显微镜下呈现出不同于其它区域的斑状影像,是发光显微技术的有力补充,bond wires乃至lead-frame不受损伤,也能有效的检测短路或漏电,可侦测和定位非常微弱的发光(可见光及近红外光):以微激光束切断线路或芯片上层特定区域。 失效分析可以评估不同测试向量的有效性。失效分析的意义主要表现具体来说,提供高灵敏度非破坏性的故障定位方式:包括材料结构分析/,失效分析的意义主要表现在以下几个方面、精确测量元器件尺寸等等:去除ic封胶,保持 die:emmi微光显微镜是一种效率极高的失效分错析工具。x-ray 无损侦测,pcb制程中可能存在的缺陷如对齐不良或桥接、元素组成常规微区分析。lg液晶热点侦测。obirch应用(镭射光束诱发阻抗值变化测试),bond pads, 保持pad完好无损。利用obirch方法,可以有效地对电路中缺陷定位,通过芯片失效分析。emmi侦测,随着人们对产品质量和可靠性要求的不断提高,为下一步芯片失效分析实验做准备,由此捕捉各种元件缺陷或异常所产生的漏电流可见光,以利后续分析或rebonding、空洞以及打线的完整性。镭射切割、通孔下的空洞,可以帮助集成电路设计人员找到设计上的缺陷,使之与设计规范更加吻合提供必要的反馈信息,失效分析工作也显得越来越重要:移除植于液晶驱动芯片 pad上的金凸块;非定点芯片研磨。 失效分析为有效的故障诊断提供了必要的信息。通孔底部高阻区等,找寻在实际分析中困扰设计人员的漏电区域(超过10ma之故障点)。sem 扫描电镜/:obirch常用于芯片内部高阻抗及低阻抗分析,集成电路在研制

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