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1，真空蒸镀机的电子枪损坏会导致什么结果

金属加热至蒸发温度。然后蒸汽从真空室转移，在低温零件上凝结。该工艺在真空中进行，金属蒸汽到达表面不会氧化。在对树脂实施蒸镀时，为了确保金属冷却时所散发出的热量不使树脂变形，有必须对蒸镀时间进行调整。

真空蒸镀机的电子枪损坏会导致什么结果

2，蒸发式真空镀膜机的工作原理

通过加热蒸发某种物质使其沉积在固体表面，称为蒸发镀膜。这种方法最早由M.法拉第于1857年提出，现代已成为常用镀膜技术之一。蒸发镀膜设备结构如图1。 蒸发物质如金属、化合物等置于坩埚内或挂在热丝上作为蒸发源，待镀工件，如金属、陶瓷、塑料等基片置于坩埚前方。待系统抽至高真空后，加热坩埚使其中的物质蒸发。蒸发物质的原子或分子以冷凝方式沉积在基片表面。薄膜厚度可由数百埃至数微米。膜厚决定于蒸发源的蒸发速率和时间（或决定于装料量），并与源和基片的距离有关。对于大面积镀膜，常采用旋转基片或多蒸发源的方式以保证膜层厚度的均匀性。从蒸发源到基片的距离应小于蒸气分子在残余气体中的平均自由程，以免蒸气分子与残气分子碰撞引起化学作用。蒸气分子平均动能约为0.1～0.2电子伏。

蒸发式真空镀膜机的工作原理

3，真空蒸镀的原理

金属加热至蒸发温度。然后蒸汽从真空室转移，在低温零件上凝结。该工艺在真空中进行，金属蒸汽到达表面不会氧化。在对树脂实施蒸镀时，为了确保金属冷却时所散发出的热量不使树脂变形，有必须对蒸镀时间进行调整。此外，熔点、沸点太高的金属或合金不适合于蒸镀。
可用的金属蒸发源包括电阻加热、感应蒸发、电子束枪，以及真空电弧。电阻加热的钨丝是最常用的方式。钨丝放置于要求位置，获得均匀的覆盖，铝屑或切段放置在钨丝上。蒸发金属也可放置在加热艇或坩锅内。蒸镀通常可以在圆柱形涂镀室内分批进行。涂镀室直径可达几米，取决于涂镀零件的大小和数量。零件可以绕蒸汽源做行星运动，以在零件各边均匀地涂镀金属层。如果需要的话，不需涂镀的区域可使用隔膜，通常是金属板。

真空蒸镀的原理

4，真空电镀设备是什么有什么用

真空电镀主要包括：　　真空蒸镀、溅射镀和离子镀几种类型。它们都是采用在真空条件下，通过蒸馏或溅射等方式在塑件表面沉积各种金属和非金属薄膜，通过这样的方式可以得到非常薄的表面镀层，同时具有速度快附着力好的突出优点，但是价格也较高，可以进行操作的金属类型较少，一般用来作较高档产品的功能性镀层，例如作为内部屏蔽层使用。常见的塑胶产品电镀工艺有两种：水电镀和真空离子镀. 　　真空离子镀，又称真空镀膜.真空电镀的做法现在是一种比较流行的做法，做出来的产品金属感强，亮度高．而相对其他的镀膜法来说，成本较低，对环境的污染小，现在为各行业广泛采用．真空电镀适用范围　　真空电镀适用范围较广，如ABS料、ABS+PC料、PC料的产品.同时因其工艺流程复杂、环境、设备要求高，单价比水电镀昂贵.现对其工艺流程作简要介绍：产品表面清洁--〉去静电--〉喷底漆--〉烘烤底漆--〉真空镀膜--〉喷面漆--〉烘烤面漆--〉包装.真空电镀的做法　　一般真空电镀的做法是在素材上先喷一层底漆，再做电镀．由于素材是塑料件，在注塑时会残留空气泡，有机气体，而在放置时会吸入空气中的水分．另外，由于塑料表面不够平整，直接电镀的工件表面不光滑，光泽低，金属感差，并且会出现气泡，水泡等不良状况．喷上一层底漆以后，会形成一个光滑平整的表面，并且杜绝了塑料本身存在的气泡水泡的产生，使得电镀的效果得以展现． 　　真空电镀可分为：　　一般真空电镀、UV真空电镀、真空电镀特殊.工艺有蒸镀、溅镀、枪色等.应用举例：　　PC料耐温130度，只有“真空电镀+UV油光固”才可达到耐130度高温要求。而一般的水电镀是无法对PC料进行电镀的！编辑本段真空电镀工艺　　真空蒸镀法是在高度真空条件下加热金属，使其熔融、蒸发，冷却后在塑料表面形成金属薄膜的方法。常用的金属是铝等低熔点金属。 　　加热金属的方法：有利用电阻产生的热能，也有利用电子束的。 　　在对塑料制品实施蒸镀时，为了确保金属冷却时所散发出的热量不使树脂变形，必须对蒸镀时间进行调整。此外，熔点、沸点太高的金属或合金不适合于蒸镀。 　　置待镀金属和被镀塑料制品于真空室内，采用一定方法加热待镀材料，使金属蒸发或升华，金属蒸汽遇到冷的塑料制品表面凝聚成金属薄膜。 　　在真空条件下可减少蒸发材料的原子、分子在飞向塑料制品过程中和其他分子的碰撞，减少气体中的活性分子和蒸发源材料间的化学反应（如氧化等），从而提供膜层的致密度、纯度、沉积速率和与附着力。通常真空蒸镀要求成膜室内压力等于或低于10-2Pa，对于蒸发源与被镀制品和薄膜质量要求很高的场合，则要求压力更低（ 10-5Pa ）。 　　镀层厚度0.04-0.1um太薄，反射率低；太厚，附着力差，易脱落。厚度0.04时反射率为90%

5，真空镀膜机的原理

说来话长，简单点的话就是：阴极被激发的电子在电场作用下加速飞向衬底基片的过程中与氩原子发生碰撞，电离出大量的氩离子和二次电子，二次电子飞向衬底基片。氩离子在电场的作用下加速轰击靶材，溅射出大量的靶材原子，呈中性的靶原子（或分子）沉积在衬底上形成薄膜。二次电子在加速飞向衬底的过程中受到磁场洛仑磁力的影响，被束缚在靠近靶面的等离子体区域内，该区域内等离子体密度很高，二次电子在磁场的作用下围绕靶面做圆周运动，该电子的运动路径很长，在运动过程中不断地与氩原子发生碰撞电离出大量的氩离子轰击靶材，经过多次碰撞后二次电子的能量逐渐降低，摆脱磁力线的束缚，远离靶材，最终沉积在衬底上
真空镀膜机按镀膜方式主要可分为：蒸发式镀膜，磁控溅射镀膜和离子镀。蒸发镀膜工作原理是将膜材置于真空镀膜室内，通过蒸发源加热使其蒸发，当蒸发分子的平均自由程大于真空镀膜室的线性尺寸，蒸汽的原子和分子从蒸发源表面逸出后，很少受到其他分子或原子的冲击与阻碍，可直接到达被镀的基片表面，由于基片温度较低，便凝结其上而成膜。磁控溅射镀膜是指电子在电场E的作用下，在飞向基片过程中与氩原子发生碰撞，使其电离产生出Ar正离子和新的电子;新电子飞向基片，Ar正离子在电场作用下加速飞向阴极靶，并以高能量轰击靶表面，使靶材发生溅射。在溅射粒子中，中性的靶原子或分子沉积在基片上形成薄膜。离子镀的工作原理是：蒸发源接阳极，工件接阴极，当通以三至五千伏高压直流电以后，蒸发源与工件之间产生弧光放电。由于真空罩内充有惰性氩气，在放电电场作用下部分氩气被电离，从而在阴极工件周围形成一等离子暗区。带正电荷的氩离子受阴极负高压的吸引，猛烈地轰击工件表面，致使工件表层粒子和脏物被轰溅抛出，从而使工件待镀表面得到了充分的离子轰击清洗。随后，接通蒸发源交流电源，蒸发料粒子熔化蒸发，进入辉光放电区并被电离。带正电荷的蒸发料离子，在阴极吸引下，随同氩离子一同冲向工件，当抛镀于工件表面上的蒸发料离子超过溅失离子的数量时，则逐渐堆积形成一层牢固粘附于工件表面的镀层。
一、电控柜的操作1.开水泵、气源2.开总电源3.开维持泵、真空计电源，真空计档位置V1位置，等待其值小于10后，再进入下一步操作。约需5分钟。4.开机械泵、予抽，开涡轮分子泵电源、启动，真空计开关换到V2位置，抽到小于2为止，约需20分钟。5.观察涡轮分子泵读数到达250以后，关予抽，开前机和高阀继续抽真空，抽真空到达一定程度后才能开右边的高真空表头，观察真空度。真空到达2×10-3以后才能开电子枪电源。二、DEF-6B电子枪电源柜的操作1.总电源2.同时开电子枪控制Ⅰ和电子枪控制Ⅱ电源:按电子枪控制Ⅰ电源、延时开关，延时、电源及保护灯亮，三分钟后延时及保护灯灭，若后门未关好或水流继电器有故障，保护灯会常亮。3.开高压，高压会达到10KV以上，调节束流可到200mA左右，帘栅为20V/100mA，灯丝电流1.2A，偏转电流在1~1.7之间摆动。三、关机顺序1.关高真空表头、关分子泵。2.待分子泵显示到50时，依次关高阀、前级、机械泵，这期间约需40分钟。3.到50以下时，再关维持泵。
用几十电子伏或更高动能的荷能粒子轰击材料表面，使其原子获得足够的能量而溅出进入气相，这种溅出的，复杂的粒子散射过程称为溅射。溅射镀膜是利用溅射现象来达到制取各种膜层的目的，即在真空室中利用荷能离子轰击靶表面，使被轰击出的粒子在基底上沉积的技术。在与靶表面平行的方向上施加磁场，利用电场和磁场相互垂直的磁控管原理减少了电子对基底的轰击，有效降低了基底温度，使高速溅射成为可能
你这问题太大了。。。。简单的话就是把膜料弄到基底上。这里就包括溅射、用电子枪打等方式不同的镀膜机是不同的。真空的目的是让分子的平均自由程更大，就是避免膜料分子不会碰到空气分子。
主要利用辉光放电(glow discharge)将氩气(Ar)离子撞击靶材(target)表面, 靶材的原子被弹出而堆积在基板表面形成薄膜。下列固态物质皆可为靶材 (Target) ：任何常温固态金属 ( 铜、铝、钛 )固态非金属 ( 石墨 , 氧化硅 ( SiO2 )合金 ( 不锈钢 （ SUS )金属氧化物 ( 氧化钛、氧化铟 ) 。注： 一般金属镀膜大都采用直流（DC）溅镀，而不导电的陶瓷材料则使用RF交流

6，什么是半透镜

半透镜顾名思义，半透镜在一定的条件下可以看透，没有符合一定条件看不透。跟二极管有点相似。现在半透镜广泛用于相机，手机，显示屏，装饰品，灯箱，广告，玩具，半透镜相机等不同的行业。半透镜可以分为两种：有机半透镜和无机半透镜。1、无机半透镜是在无机玻璃（普通玻璃）里面添加某种色素，形成的半透效果。同样可以分为颜色半透镜和电镀半透镜。2、有机半透镜，通常是采用透明的有机玻璃制造而成，工艺分很多种：常见的工艺有：颜色半透镜，电镀半透镜两种扩展资料：颜色半透镜 常用于装饰，玩具，广告等行业1、颜色半透镜的优点：不容易褪色，颜色多样话，可以自己选定颜色配置，色泽均匀；2、颜色半透镜的缺点：配色比较难，非专业认识很难根据样板配出合适的颜色，几乎不可能配出一模一样的半透镜；单次单色定量比较大。单价相对透明板要高一点；参考资料来源：搜狗百科-半透镜
半透镜是一种特殊的镜子，可以透过一半光，而反射另一半光。一般是镀了分光膜，允许有的波长的光透过，有的波长的光反射。一般情况下是3种颜色的光RGB,一种反射,2种投射,可以按照技术要求而改变的.最好举个例子,比如说GDM,就是把绿光反射,其余的投射过去,就是和膜的类型有关。光学薄膜概论光学工业除了镜片的研磨，系统之设计以外，有一项科技是发展高级光学仪器所不可缺的，就是光学薄膜的蒸镀技术。何谓光学薄膜，就是在镜片上镶上一层或多层非常薄的特殊材料，使镜片能达到某种特定的光学效果。我们所常见的太阳眼镜，抗反射镜片就是一个光学薄膜在日常生活上最简单的应用 。其他如各种反射镜、滤光镜、各式镜头及雷射镜片，都要用到光学薄膜这一项技术。 光学薄膜的基本原理是利用光线的干涉效应，当光线入射於不同折射系数物质所镀成的薄膜，产生某种特殊光学特性。光学薄膜就其所镀材料之不同，大体可分为金属膜和非金属膜。金属膜：主要是作为反射镜和半反射镜用。在各种平面或曲面反射镜，或各式稜镜等，都可依所需镀上Al、Ag、Au、Cu等 各种不同的材料。不同的材料在光谱上有不同的特性。AI的反射率在紫外光、可见光、近红外光有良好的反射率，是镀反射镜最常使用的材料之一。Ag膜在可见光和近红外光部份的反射率比AI膜更高，但因其易氧化而失去光泽，只能短暂的维持高反射率，所以只能用在内层反射用，或另加保护膜。非金属膜:用途非常广泛，例如抗反射镜片．单一波长滤光片、长或短波长通过滤光片、热光镜、冷光镜、各种雷射镜片等，都是利用多种不同的非金属材料，蒸镀在研磨好之镜杯上，层数由单层到数十、百层不等，视需要的不同，而有不同的设计和方法。目前这些薄膜中被应用得最广泛，最商业化，也是一般人接触到最多的，就是抗反射膜。例如眼镜、照相机镜头、显微镜等等都是在镜片上镀抗反射膜。因为若是不加以抗反射无法得到清晰明亮的影像了，因此如何增加其透射光线就是一个非常重要的课题。 利用光波干涉原理，在镜片的表面镀上一层薄膜，厚度为1/4 波长的光学厚度，使光线不再只被玻璃—空气界面反射，而是空气—薄膜、薄膜—玻璃二个界面反射，因此产生干涉现象，可使反射光减少。若镀二层的抗反射膜，使反射率更低，但是镀一层或二层都有缺点：低反射率的波带不移宽，不能在可见光范围都达到低反射率。1961年Cox、Hass和 Thelen三位首先发表以1/4一1/2一1/4波长光学厚度作三层抗反射膜可以得到宽波带低反射率的抗反射膜。多层抗反射膜除了宽波带的，也可做到窄波带的。也就是针对其一波长如氨氟雷射632.8nm波长，要求极高的透射，可使63Z.8nm这一波长透射率高达99.8%以上，用之於雷射仪器。但若需要对某一波长的光线有看极高的反射率需要用高低不同折射系数的材料反覆蒸镀数十层才可达到此效果。 光学薄膜的制造是以真空蒸镀方式制作，大体可分为三种方式：热电阻式、电子枪式和溅射方式。最普通的方式为热电阻式，是将蒸镀材料在真空蒸镀机内置於电阻丝或片上，在高真空的情况下，加热使材料成为蒸气，直接镀於镜片上。由於有许多高熔点的材料，不易使用此种方式使之熔化、蒸镀。而以电子枪改进此缺点，其方法是以高压电子束直接打击材料，由於能量集中可以蒸镀高熔点的材料。另一方式为溅射方式，是以高压使惰性气体离子化，打击材料使之直接溅射至镜片，以此方式所作薄漠的附著力最好光学薄膜optical coating由薄的分层介质构成的，通过界面传播光束的一类光学介质材料。光学薄膜的应用始于20世纪30年代。现代，光学薄膜已广泛用于光学和光电子技术领域，制造各种光学仪器。光学薄膜的特点是：表面光滑，膜层之间的界面呈几何分割；膜层的折射率在界面上可以发生跃变，但在膜层内是连续的；可以是透明介质，也可以是吸收介质；可以是法向均匀的，也可以是法向不均匀的。实际应用的薄膜要比理想薄膜复杂得多。这是因为：制备时，薄膜的光学性质和物理性质偏离大块材料，其表面和界面是粗糙的，从而导致光束的漫散射；膜层之间的相互渗透形成扩散界面；由于膜层的生长、结构、应力等原因，形成了薄膜的各向异性；膜层具有复杂的时间效应。光学薄膜按应用分为反射膜、增透膜、滤光膜、光学保护膜、偏振膜、分光膜和位相膜。常用的是前4种。光学反射膜用以增加镜面反射率，常用来制造反光、折光和共振腔器件。光学增透膜沉积在光学元件表面，用以减少表面反射，增加光学系统透射，又称减反射膜。光学滤光膜用来进行光谱或其他光性分割，其种类多，结构复杂。光学保护膜沉积在金属或其他软性易侵蚀材料或薄膜表面，用以增加其强度或稳定性，改进光学性质。最常见的是金属镜面的保护膜。 光学薄膜 光学薄膜泛指在光学器件或光电子元器件表面用物理化学等方法沉积的、利用光的干涉现象以改变其光学特性来产生增透、反射、分光、分色、带通或截止等光学现象的各类膜系。它可分为增透膜、高反膜、滤光膜、分光膜、偏振与消偏振膜等。光电信息产业中最有发展前景的通讯、显示和存储三大类产品都离不开光学薄膜，如投影机、背投影电视机、数码照相机、摄像机、DVD，以及光通讯中的DWDM、GFF滤光片等，光学薄膜的性能在很大程度上决定了这些产品的最终性能。光学薄膜正在突破传统的范畴，越来越广泛地渗透到从空间探测器、集成电路、生物芯片、激光器件、液晶显示到集成光学等各学科领域中，对科学技术的进步和全球经济的发展都起着重要的作用，研究光学薄膜物理特性及其技术已构成现代科技的一个分支——薄膜光学。光学薄膜技术水平已成为衡量一个国家光电信息等高新技术产业科技发展水平的关键技术之一。
半透镜的诞生，其实并不是由索尼首创。早在胶片单反相机时期，佳能等光学厂商便设计出采用半透镜技术的单反，用意其实是想在超高速连拍时，消除传统单反反光板上下运动所产生的振动、延迟、取景器全黑时间过长等不利因素。不过由于采用这类半透镜技术的胶片单反，在取景器明亮度、af性能等方面都不能完全满足专业用户的需求，随着单反技术的不断发展，像尼康d3s这类顶级高速单反，已经能通过超高性能反光板来获得高速连拍时的优秀取景效果以及连续af性能，在单反领域里面似乎已经没有任何使用半透镜的必要。 但是，反光板是给单反用的，在没有反光板以及光学取景器的单电/微单相机当中，虽然没有了反光板的振动、延迟等问题，但对焦性能较高的ldquo;相位检测afrdquo;就用不了。现在所有的单电/微单都是使用ldquo;对比侦测afrdquo;作为af的机制，除了索尼a77/a65/a55/a35这类。 索尼半透镜技术有别于传统单反以及普通相机，在镜头与图像传感器之间，会一直存在着一块半透镜，该半透镜会将部分光线反射到af传感器上，让相机获得持续的相位检测af性能。很多人认为半透镜会让相机曝光时间增长，并且会损失画质，但一直都只是ldquo;空口说白话rdquo;的层面争论。nbsp;nbsp;nbsp; 相比起其他类型相机，由于半透镜相机多存在了一块会反射光线的镜片，很多人都怀疑半透镜相机的画质会打折扣。尽管索尼一再强调，半透镜只会反射ldquo;极少量rdquo;光线到相位检测af传感器，对画质的影响ldquo;微乎其微rdquo;，但网上的争论一直不断。nbsp;nbsp;nbsp; 传闻中半透镜会损失30%光线是不正确的，因为用肉眼观察半透镜，透光率肯定远远高于70%的。不过在特定角度下，半透镜的反光程度也是相当明显的。nbsp;nbsp;nbsp; 总的来说，半透镜对曝光的影响是实实在在、没有异议的，半透镜的存在的确会减少1/3ev-2/3ev曝光。这个曝光差异会不会对实际拍摄造成什么差异呢?其实1/3ev的幅度，在日常拍摄中完全可以忽视，至于在长时间曝光(超过1秒的快门)的情况下，相机自动测光系统甚至对有无半透镜两种情况调整出一样的曝光参数。nbsp;nbsp;nbsp; 而对画面色调的影响，在上面众多对比画面当中也可以发现，去掉半透镜后画面对比度会有少量的提升，虽然幅度并不大，但确实是可以观察得到的。不过对比度这回事，只要在创意风格或者色彩调整里面稍微调节一下，即可消除两者之间的差异，所以也是可以忽略的。至于画质(画面锐度)影响，这里可以简单地说，大部分情况下有无半透镜之间的差异都是相当不明显的。
看过《真实的谎言》吧，你一定记得有面镜子，可以从背面看到镜前的一切。现在真有这样的镜子哦！出门在外，进入洗手间时，一定要试试镜子是否是一面普通的镜子。方法很简单：用手指尖接触镜面，如果指尖与影像之间有一定间距，就是普通镜子。如果指尖与影像中的指尖接触，小心哟，则是可透视镜。 那只是贴合单面PET的塑料纸与汽车反光玻璃是一样的道理．水银单向透视应用．建议你用贴的也一样．不必再花钱修改．（除非你的玻离不是完全平面的）．?反射玻璃，还分成全反射与半反射。价钱跟厚度、颜色、强度有关。单面透镜,一面可透视,一面是镜子,一般玻璃店可订做,单价比较高。

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