1，抱壹微电子是什么公司

苏州抱壹微电子有限公司是专门针对国内Foundry从事研发、制造和销售高性能、高品质模拟,数字和存储器IP的高科技公司。是民营公司。

抱壹微电子是什么公司

2，中国电子科技集团五十八研究所微电子学本科能进去吗

也招本科的，基本是画版图。
北京的话，得上370才稳妥，我也是本一微电子专业的，中科院微电子所出来的很多去高校当老师了。微电所不好考，我同学想考那，大三上开始准备，没日没夜的复习，忒辛苦。

中国电子科技集团五十八研究所微电子学本科能进去吗

3，自动化专业出国想读EE微电子电子与集成电路Electronics

1. 跨度不算特别大，但是很多电子科学与技术专业的核心科目并不容易学，看你自己能不能用课余时间搞定了，不过话说自动化的人因为学过自控原理，反馈会理解得很透彻，而模拟方向反馈非常重要。值得注意的是，现在申请微电子的设计方向（digital/analog/RF design）非常难，因为大家都知道这个方向很好，不仅需要自己成绩优秀，还需要有一定运气。2. 首先要明确你之后做微电子的方向，主要包括设计、器件、CAD、工艺。专业知识储备有几个分支。A.半导体基础【如果做器件和工艺方向，这个类别的知识要重点学习】（按先修课程优先的顺序，后同）：量子力学，统计物理，固体物理，半导体物理。（简单说一句，前面的物理课程纯是为了让你学习有理论的完备性，但是难度非常变态，如果不做工艺和器件的话，我建议直接看半导体物理就好） B. 电气/信号基础【如果做设计方向，就靠它了】：电路分析，模电，数电，信号与系统。（如果做模拟设计，这几门课学得再好也不为过，数字的话相对简单，学好数电就行了） C. 进阶课程【按数字设计和模拟设计分类】：数字设计：VLSI/数字ic设计，ASIC（主要就是学HDL），微机原理；模拟设计：微电子学（大概讲芯片是怎么造出来的课，用于帮助理解版图的物理意义），模拟ic设计。——基本就这些了，如果本科生把这些都搞好，之后深造会如鱼得水的，可惜他们刚上大学时候没人跟他们说这些~3. 没有跨学科申请过，不敢瞎说。但是如果你有很好的gpa，英语成绩，同时证明你有很好电子方向的基础，和学习能力，相信学校会愿意要的。但是还是之前那句，设计方向非常难申请，请最好最坏的打算。再给个建议，申请美国学校的话，一定优先选择西海岸学校，地域优势明显，其次是德州和东海岸。当然也有个别学校在专门方向特别强势，自己可以多去看看相关消息。
很多专业基础课都是一样的。英国大学硕士可以申请上的，比较好的大学要求成绩达到80以上，雅思6.5以上。英国是1年制，总费用25－30万。再看看别人怎么说的。
微电子不好学啊。看硅谷传奇了吧?而且你想做工艺，前段设计还是后端设计，模拟还是数字，想清楚啊

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4，光刻机中国能造吗

暂时不能光刻机不是一项单一的技术，而是现代各项高科技技术的集成，成品背后需要无数的产业链支持，以中国现在的科技水平暂时还不能造出。当中国专家去荷兰阿斯麦尔公司参观光刻机的时候，阿斯麦尔的高管直接对中国的专家说：就算给你全套图纸，你们中国也造不出光刻机。 很多中国人听到这句话都非常的气愤，凭什么中国就造不出光刻机？近年来关于国产光刻机弯道超车的新闻频繁在各类媒体中出现，国人想要在光刻机技术上超越欧美发达国家的爱国情怀可以理解，但部分媒体为了博取眼球对国产光刻机过分的吹捧，不尊重事实的报道对普通大众而言其实是一件特别不负责任的事情。理想很丰满，现实很骨感，以中国现在的科技水平确实造不出光刻机，光刻机不是一项单一的技术，而是现代各项高科技技术的集成，光刻机的内部十分复杂，可以说是人类知识集大成的产物之一，光刻机就像手机和汽车一样，是由无数的零配件组装合成的，最终实现某种功能，成品背后需要无数的产业链支持，各式各样的零配件都是行业内顶级的技术体现，没有长时间的深耕运作，国产光刻机在单一的某项技术上实现领先是没问题的，但是想要在整体上实现弯道超车，基本上不现实。举个例子：比如马拉松长跑比赛，第二名与第一名的差距相差3公里，在某一个时间段，第二名选手的速度超过了第一名选手，这仅仅代表着第二名选手最终有超越第一名选手的可能，但是3公里路程的巨大差距却不是一时半会可以赶上的，想要超越，时间跨度将非常大，因为你在努力向前跑的同时对手也在努力向前跑。荷兰阿斯麦尔之所以能够垄断全球最顶尖的光刻机市场，不是因为荷兰人聪明，单纯靠荷兰人也研发不出光刻机，光刻机的研发集合了全球优势资源加上半导体几十年的技术积累，最终在数以万计的专业的顶尖研发人员不断技术突破下才成功，荷兰的幸运在于目前只有荷兰掌握光刻机最核心的技术“侵入式光刻技术”，所以现在顶级光刻机只有荷兰有能力生产。技术是研发的外在体现，任何技术的突破都是厚积薄发的结果，光刻机需要的技术方向特别多，比如机械化层面，自动化层面，系统科学层面等一大堆方向都需要有人去攻关，有些地方是知道技术壁垒的，但是如何突破技术壁垒还没有头绪，有些地方连技术壁垒在什么地方都没找到，更别谈技术突破了，而且任何一项技术的突破都需要长年累月技术投入，资金投入，人员投入。技术积累并不是钱能够解决的，目前国内在光刻机领域做得比较好的是上海微电子装备和中科院的某个研究所，它们目前还停留在90nm研发产品阶段，而荷兰阿斯麦尔7nm的光刻机已经实现量产，当然这并不代表国产光刻机没有超越的机会，目前国内对光刻机的重视程度越来越高，大量的资金和顶尖的人才都在光刻机领域深耕研究。国产光刻机其实只要在某些关键技术上取得突破，就算得上是弯道超车了，就好比荷兰阿斯麦尔在光刻机“侵入式光刻技术”上领先全球一样，没有这项关键性技术，就无法制造更顶级的光刻机，所以目前只有荷兰才有资格制造顶级光刻机。

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