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1，pmma的分子量大小对电子束曝光有什么影响

pmma的分子量大小对电子束曝光有什么影响实验发现,PMMA的分子量在一定范围内时可提供最佳的性能.PMMA的分子量范围为25,000~200,000g/mol
光点聚焦指什么？我觉得有影响

pmma的分子量大小对电子束曝光有什么影响

2，电子束曝光和 photolithography 的区别

photolithography [英]?f??t?l?θ？gr?f? [美]?fo?to?l?θ？gr?f? n. 影印石版术，照相平版 [例句]Design flow integration for photolithography simulation.
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电子束曝光和 photolithography 的区别

3，电子束光刻什么是电子束光刻

电子束曝光（electron beam lithography）指使用电子束在表面上制造图样的工艺，是光刻技术的延伸应用。光刻技术的精度受到光子在波长尺度上的散射影响。使用的光波长越短，光刻能够达到的精度越高。根据德布罗意的物质波理论，电子是一种波长极短的波。这样，电子束曝光的精度可以达到纳米量级，从而为制作纳米线提供了很有用的工具。电子束曝光需要的时间长是它的一个主要缺点。为了解决这个问题，纳米压印术应运而生。电子束曝光在半导体工业中被广泛使用于研究下一代超大规模集成电路。

电子束光刻什么是电子束光刻

4，电子束曝光机与普通光学曝光机有哪些区别

平行曝光机的主要特点　　这个类型的设备只有一个灯管，曝光台面也是分有上下方两个镜子，使用的是光线折射的原理。当两个面同时进行曝光的时候，上下灯的曝光是分开的。上等先进行曝光，一面镜子将光线反射到台面的上方镜子，然后再折射到曝光台面上。下灯曝光时，光线是直接直射到下方的镜子里然后在折射到台面上，因此说使用品行曝光机进行曝光的时候，上灯的能量会比下灯的能量要更大一些，曝光及级数才会一样。　　散光曝光机的主要特点　　这个设备在曝光的时候灯光是直接进行照射的，就像点灯一样，上下灯在两面都是同时进行曝光的。
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5，电子束光刻技术原理方法优缺点急求查阅了资料还是觉得

电子束光刻中使用的曝光机一般有两种类型:直写式与投影式。直写式就是直接将会聚的电子束斑打在表面涂有光刻胶的衬底上,不需要光学光刻工艺中最昂贵和制备费时的掩膜;投影式则是通过高精度的透镜系统将电子束通过掩膜图形平行地缩小投影到表面涂有光刻胶的衬底上。一般直写式曝光机主要使用的是热场发射源(表面镀ZrO的钨金属针尖),工作温度在1800K,和冷场发射源相比可以有效地防止针尖的污染并提供稳定的光源。电子源发射出来的电子束的聚焦和偏转是在镜筒中完成的。镜筒通常包含有光阑、电子透镜、挡板、像散校正器和法拉第电流测量筒等装置。光阑的作用主要是设定电子束的会聚角和电子束电流。电子透镜的作用是通过静电力或是磁力改变电子束的运动。电子透镜类似光学透镜,也存在球差和色差(当外圈电子会聚比内圈电子强时就形成了球差,而当能量有微小差异的电子聚焦在不同平面上时就形成了色差),从而限制了束斑的大小和会聚角的范围。像散校正器可以补偿不同方位角电子束的像差。挡板的作用是开启或关闭电子束。结合刻蚀和沉积工艺,利用直写式曝光技术可以制备20nm甚至更细的图形,最小尺寸达10nm的原理型纳米电子器件也已经制备出来。由于直写式曝光技术所具有的超高分辨率,无需昂贵的投影光学系统和费时的掩膜制备过程,它在微纳加工方面有着巨大的优势。但由于直写式的曝光过程是将电子束斑在表面逐点扫描,每一个图形的像素点上需要停留一定的时间,这限制了图形曝光的速度。直写式电子束光刻在产能上的瓶颈使得它在微电子工业中一般只作为一种辅助技术而存在,主要应用于掩膜制备、原型化、小批量器件的制备和研发。但直写式电子束曝光系统在纳米物性测量、原型量子器件和纳米器件的制备等科研应用方面已显示出重要的作用。
电子束曝光（电子束直写、EBL）的原理在百度文库有很多，最大的优点是：精度高，可以达到8nm；不需要掩模板。最大的缺点是：效率低，费用高。机械制造系统工程国家重点实验室有一台电子束曝光机，具体你可以到网站上看看sklms.xjtu.edu.cn再看看别人怎么说的。

6，谁知道EBL 跟TPM是什么意思

紧急制动灯 (EBL)　　沃尔沃轿车的紧急制动灯 (EBL) 　　在车速超过 60 km/h 时启动，EBL 系统可以感应正常制动与紧急制动之间的不同。 如果是紧急情况，全部制动灯将闪烁，频率为每秒 5 次。 一旦您的车速降低到低于 10 km/h 时，制动灯停止闪烁，而危险灯则闪烁。 TPM不知道噢。。。。
　 电子束曝光系统（electron beam lithography, EBL，又称电子束暴光系统）是一种利用电子束在工件面上扫描直接产生图形的装置。由于SEM、STEM及FIB的工作方式与电子束曝光机十分相近，美国JC Nabity Lithography Systems公司是最早研发了基于改造商品SEM、STEM或FIB的电子束曝光装置（Nanometer Pattern Generation System纳米图形发生系统，简称NPGS，又称电子束微影系统）。电子束曝光技术具有可直接刻画精细图案的优点，且高能电子的波长短（< 1 nm），可避免绕射效应的困扰，是实验室制作微小纳米电子元件最佳的选择。相对于购买昂贵的专用电子束曝光机台，以既有的SEM等为基础，外加电子束控制系统，透过电脑介面控制电子显微镜中电子束之矢量扫描，以进行直接刻画图案，在造价方面可大幅节省，且兼具原SEM 的观测功能，在功能与价格方面均具有优势。由于其具有高分辨率以及低成本等特点，在北美研究机构中，JC Nabity的NPGS是最热销的配套于扫描电镜的电子束微影曝光系统，而且它的应用在世界各地越来越广泛。（NPGS最突出优点是技术先进性无与伦比且性价比高） TPM(Total Productive Maintenance)，中文翻译为“全面生产保养”，是一种以设备为中心展开效率化改善的制造管理技术，与全面品质管理（Total Quality Management，TQM）、精实生产（Lean Production）并称为世界级三大制造管理技术。 TPM概念　　从理论上讲，TPM是一种维修程序。它与TQM（全员质量管理）有以下几点相似之处：（1）要求将包括高级管理层在内的公司全体人员纳入TPM； （2）要求必须授权公司员工可以自主进行校正作业； （3）要求有一个较长的作业期限，这是因为TPM自身有一个发展过程，贯彻TPM需要约一年甚至更多的时间，而且使公司员工从思想上转变也需要时间。 　　TPM将维修变成了企业中必不可少的和极其重要的组成部分，维修停机时间也成了工作日计划表中不可缺少的一项，而维修也不再是一项没有效益的作业。在某些情况下可将维修视为整个制造过程的组成部分，而不是简单地在流水线出现故障后进行，其目的是将应急的和计划外的维修最小化。

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