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1，感应耦合等离子体刻蚀机工作原理是什么

利用ICP产生高密度等离子体，等离子体中的活性基团或者离子与所需刻蚀的材料发生化学反应，并去除；一般在刻蚀的过程中同时也伴随着物理轰击，并把相应的键能打开，从而加速反应的进程。

感应耦合等离子体刻蚀机工作原理是什么

2，LED PSS什么意思

PSS(Patterned Sapphire Substrate)，俗称图形化衬底，也就是在蓝宝石衬底上生长干法刻蚀用掩膜，用标准的光刻工艺将掩膜刻出图形，利用ICP刻蚀技术刻蚀蓝宝石，并去掉掩膜，再在其上生长GaN材料，使GaN材料的纵向外延变为横向外延。

LED PSS什么意思

3，求助ICP原理

简单的说就是，ICP是金属离子从激发态到基态发射出能量的大小与浓度成正比，从而测定金属的浓度。
微加工中离子耦合刻蚀工艺也叫ICP，不知是不是楼主指的那个。
不知道楼主ICP是不是指的电感耦合等离子体，若是的话可以随便找本原子光谱的书籍，就有讲的。

求助ICP原理

4，什么是icpaes

Inductively Coupled Plasma - Advanced Silicon Etch 电感耦合等离子体深硅刻蚀 Inductively Coupled Plasma - Atomic Emission Spectroscopy 电感耦合等离子体原子发射光谱 这个通常简写成ICP-AES，不过在化学里用得多一些

5，如何使氧气放电

在高真空状态下，在密闭的容器中通入一定量氧气，在这个腔体中加入电容和电感，进行耦合，使氧气变成等离子态，就能放电了ICP刻蚀就是这么用的
是对氧气放点，使其生成臭氧。。方程式为： 3o2==放电==2o3 实质是： o2 ＋hv——→o＋o (高层大气中的氧气受波长短于242nm的紫外线照射变成游离的氧原子)； o2＋o =o3 （有些游离的氧原子又与氧气结合就生成了臭氧，大气中 90%的臭氧是以这种方式形成的） 回答满意请采纳~

6，专业技术词汇解释呢

ITO(Indium-Tin Oxide)：氧化铟锡。是一种透明导电玻璃。ICP（inductively coupled plasma）：感应耦合等离子体。一种常用的干法刻蚀的等离子体源。台面刻蚀（MESA）：就是在薄膜、器件等表面上面根据需要刻蚀出台面结构。可以利用掩膜结合ICP刻蚀来实现。
ITO(Indium-Tin Oxide)：氧化铟锡。是一种透明导电玻璃。ICP（inductively coupled plasma）：感应耦合等离子体。一种常用的干法刻蚀的等离子体源。台面刻蚀（MESA）：就是在薄膜、器件等表面上面根据需要刻蚀出台面结构。可以利用掩膜结合ICP刻蚀来实现。

文章TAG：icp  刻蚀  感应  耦合  icp刻蚀  
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