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1，光刻电镀是什么意思

应该是两码事。光刻就是激光刻蚀，是在金属表面刻蚀图案的工艺。电镀是在金属或非金属表面镀覆金属镀层的工艺。不过，对于很多标牌和工艺品，经常把两者结合起来，以达到最佳效果。

光刻电镀是什么意思

2，光刻作用

简单的讲，就是把芯片制作所需要的线路与功能区做出来。利用光刻机发出的光通过具有图形的光罩对涂有光刻胶的wafer曝光，光刻胶见光后会发生性质变化，从而使光罩上得图形复印到wafer上。这就是光刻的作用，类似照相机照相。

光刻作用

3，什么是光刻技术

http://www.cnieee.com/wdj/gk/200903/4107.html
　光刻技术：集成电路制造中利用光学- 化学反应原理和化学、物理刻蚀方法，将电路图形传递到单晶表面或介质层上，形成有效图形窗口或功能图形的工艺技术. 光刻技术主要用于集成电路的制造。一些芯片 器件。
光盘刻录
就是利用激光技术制作。

什么是光刻技术

4，什么是微光刻跟激光光刻有什么区别

微光刻只是光刻的一种说法。一般来说，英文对光刻技术的叫法有photolithography，microlithography等等，但是意思上没有本质区别。lithography的英文愿意是印刷，加上photo或者micro目的是区别光刻和传统印刷技术。 采用激光进行光刻的种类和用途很多，直接说激光光刻很不科学，因为用激光光源进行光刻的有激光直写光刻，准分子激光步进式投影光刻，准分子激光接触式光刻等等。而光刻技术往往不依据光源来划分，所以这种“激光光刻”的说法还是不要用。 光刻的种类很多，采用激光进行光刻的方式只是其中的一部分，所以应该是包含的关系。

5，光刻是什么意思

我来打个比方吧：比如说你看集成电路板，上面不是有一条一条金属线么？那个线不是画上去的，是整个刷一层铜到塑料板上，然后上面刷一层蜡，然后你用刀子把没有导线的部分的蜡“刻”下去，然后把这块板子扔到腐蚀液里，没有蜡覆盖的地方就会被腐蚀掉，然后你把它拿出来，集成电路板就做好了 做cpu（计算机的中央处理器，计算机的核心）的时候呢。也是这个样子，但是cpu里面的导线非常非常非常小，线间距是几十纳米级别的，小的已经没有任何物理的刀子可以取刻出导线来了，这个时候我们就用“光刻”了。因为光可以被分的很纤细的，光刻是在金属表面铺一层感光膜，然后用光去照它，被光照到的地方，感光膜就会被“烧掉”，然后这个时候你用一个“纸片”上面画着电路图，去挡一下光，这样就把电路该在的地方留下来了，然后扔到对应的液体里一泡，cpu里面的电路就做好了。 以上文字纯手打。看不明白可以再问我

6，光刻工艺的原理是什么

光刻工艺是利用类似照相制版的原理，在半导体晶片表面的掩膜层上面刻蚀精细图形的表面加工技术。也就是使用可见光和紫外光线把电路图案投影“印刷”到覆有感光材料的硅晶片表面，再经过蚀刻工艺去除无用部分，所剩就是电路本身了。光刻工艺的流程中有制版、硅片氧化、涂胶、曝光、显影、腐蚀、去胶等。光刻是制作半导体器件和集成电路的关键工艺。自20世纪60年代以来，都是用带有图形的掩膜覆盖在被加工的半导体芯片表面，制作出半导体器件的不同工作区。随着集成电路所包含的器件越来越多，要求单个器件尺寸及其间隔越来越小，所以常以光刻所能分辨的最小线条宽度来标志集成电路的工艺水平。国际上较先进的集成电路生产线是1微米线，即光刻的分辨线宽为1微米。日本两家公司成功地应用加速器所产生的同步辐射X射线进行投影式光刻，制成了线宽为0.1微米的微细布线，使光刻技术达到新的水平。
光刻机制造，原理简单，难点却很多

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