7nm光刻机，迈向7nm工艺与3D IC有多难

本文目录一览

1，迈向7nm工艺与3D IC有多难
2，武汉弘芯7nm光刻机是真的吗
3，为什么说7nm工艺对半导体来说是个大挑战
4，7nm光刻机有多厉害
5，最先进入7nm级别的手机芯片是哪个
6，有了荷兰光刻机中国就能造出7nm芯片问题没这么简单
7，天玑720相当于骁龙多少
8，中国首台7纳米光刻机
9，华为荣耀x1怎么样
10，光刻机中国能造吗

1，迈向7nm工艺与3D IC有多难

硅晶片的制造极限是0.5nm，这是几乎无法达到的。因为从微观原子角度来说，0.5nm就只是一个硅原子了。7nm就是14个硅原子组成一个结构，技术角度来说，现在的光刻技术还无法达到。或无法大规模使用如此精细的制造工艺。

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迈向7nm工艺与3D IC有多难

2，武汉弘芯7nm光刻机是真的吗

7nm只是一种工艺的代号，它和光刻机本身是不挂钩的。按照一般人的理解7nm光刻机就是指能制作7nm工艺的光刻机，这个命名方式乍看起来很合理，实际上漏洞百出。举个例子，在中芯国际财报中，公司透露了会将部分生产28纳米芯片的设备转用于生产其它制程产品。假设中芯国际用于生产28纳米芯片的光刻机将来用于生产45纳米芯片，那么这台光刻机原来应该叫“28nm”光刻机，就因为它生产了45nm芯片。在官网的项目时程中，武汉弘芯14纳米工艺大概会在2020年下半年开始测试流片，其7纳米工艺在2020年开始研发。而中芯国际在2019年时，其14纳米工艺已经实现量产。

武汉弘芯7nm光刻机是真的吗

3，为什么说7nm工艺对半导体来说是个大挑战

尺寸缩小，相应光刻的工艺就要提升，比如曝光机用光源就要换成电子束或者波长更短的射线来保证不会产生干涉、衍射现象对图形的影响。而且当尺寸缩小到一定程度时，更小的尺寸只会出现在实验室里，而不具有商业价值了。因为尺寸缩小带来的集成度的提高所产生的收益已经不足以抵消提高工艺所需的成本了。除非是特殊需要，比如军用要求高速高可靠不计成本，一般的企业是不会去研究深纳米工艺的。

7纳米制程节点将是半导体厂推进摩尔定律（moores law）的下一重要关卡。半导体进入7纳米节点后，前段与后段制程皆将面临更严峻的挑战，半导体厂已加紧研发新的元件设计架构，以及金属导线等材料，期兼顾尺寸、功耗及运算效能表现。

为什么说7nm工艺对半导体来说是个大挑战

4，7nm光刻机有多厉害

　　随着半导体技术不断进步，7纳米(nm)制程迅速发展。而7nm光刻机作为半导体生产线的重要设备之一，也随之得到了极大的关注。　　1.更高的精度　　7nm光刻机与前几代光刻机相比，具有更高的分辨率和更精细的曝光技术。它能够在极小的面积内进行微细模式的制造，从而在芯片上实现更高的集成度和更低的功耗。这是其他制造工艺无法比拟的。　　2.更高的运营效率　　7nm光刻机是经过几代光刻机的积累和改良而成，生产线的稳定运行和成本效益也得到了更好的保障。它具有更快的曝光速度和更高的制造效率，能够在短时间内完成更多的加工任务，同时还能够大幅降低误差和缺陷发生率。　　3.更多的应用领域　　7nm光刻机的应用范围也得到了扩展。除了传统的半导体芯片生产，它还能够用于生产其他高科技产品，如集成电路、微机电系统(MEMS)以及光子学芯片等。这些产品在新兴科技领域中具有广泛应用，因此对于7nm光刻机的需求也将越来越大。　　4.创新和变革的引领者　　7nm光刻机的出现，代表了半导体生产技术的历史性进步。它对全球产业链的推动力不可忽视，已经成为创新和变革的引领者。无论是中国、日本、美国等国的企业，都在积极研究和开发7nm光刻机，以期获得更大的市场份额和更多的技术优势。　　结语　　总的来说，7nm光刻机的厉害之处在于它具有更高的精度、更高的运营效率、更多的应用领域和创新和变革的引领者。它不仅让人们对未来的半导体技术充满期待，同时也为全球产业链的升级和前进带来了巨大的机会和挑战。

5，最先进入7nm级别的手机芯片是哪个

最先的是苹果，苹果的a12处理器安卓阵营，首先是华为的70980。

很先进入及别的手机芯片是这个，很先进入及别的手机芯片是这个。

你好！现在来说拥有7nm级光刻机的厂商也有几家了，同样也仅仅只有几个国度有——韩国、美国、台湾，我国订了一台还没到货。包括有美国的苹果公司的A12处理器——鸿海代工、美国的高通公司代表作——855&855+、美国的因特尔公司也有7nm的光刻机——是自己设计自己生产的。韩国三星——海力士、华为的麒麟980是自己有设计能力但没有生产工具，也是台积电代工的。仅代表个人观点，不喜勿喷，谢谢。

1首先手机不交CPU（处理器）。而是SOC（系统级芯片）。SOC中集成了逻辑模块、微处理器/微控制器CPU 内核模块、数字信号处理器DSP模块、嵌入的存储器模块、...

6，有了荷兰光刻机中国就能造出7nm芯片问题没这么简单

芯片作为现代社会中不可或缺的重要组成部分，已经成为了全球科技竞争的焦点。光刻机作为芯片制造过程中至关重要的设备，扮演着决定芯片制造技术是否先进的关键角色。全球最先进的光刻机由荷兰公司ASML所制造，能够生产出7纳米以下的芯片，堪称目前世界上最先进的光刻机之一。然而，尽管中国已经研制成功了自己的光刻机，但是芯片制造的问题远没有那么简单。光刻机作为芯片制造过程中不可或缺的一环，对芯片的性能、可靠性和稳定性起着重要的影响。目前，中国的光刻机制造技术已经取得了长足的发展。上海微电子公司已经成功生产了22纳米的光刻机，并且计划在2021年交付采用ARF光源制程工艺为28纳米的光刻机。这表明中国在光刻机领域已经取得了重要的突破。然而，与全球领先的光刻机相比，中国的光刻机技术还存在一定的差距。因此，中国需要加大研发力度，提高技术水平，以满足国内高端芯片制造的需求。要想实现自主芯片制造技术的突破，中国不仅需要光刻机技术的进步，还需要解决其他一系列相关问题。例如，光刻机所使用的极紫外光源、高精度光刻胶等材料的生产和质量控制也是关键的研究领域。中国需要在材料方面进行更多的研究和开发，以提高自身的核心竞争力。的研究和开发，以提高自身的核心竞争力。芯片产业的发展趋势与展望：随着信息化时代的到来，对芯片的需求越来越大。在这样的背景下，芯片产业也呈现出快速发展的趋势。然而，随着技术的不断进步和竞争的加剧，芯片产业也面临着一系列的挑战和问题。首先，芯片制造技术的进一步提升将是未来发展的关键。随着制程工艺的不断进步，芯片制造的要求也越来越高。如今已经有了7纳米以下的芯片，但是要想实现更小尺寸的芯片制造，还需要突破制造工艺的限制。光刻机技术作为芯片制造的核心技术之一，将在未来发展中发挥越来越重要的作用。其次，芯片产业的发展需要充分发挥国内外市场的潜力。中国作为全球最大的电子市场，拥有巨大的市场需求和消费潜力。同时，中国在制造业方面也拥有较为成熟的产业链和供应链体系。因此，中国芯片产业应积极开拓国内外市场，提升产品质量和品牌形象，以增强自身的竞争力。最后，政府的政策支持和资源投入也是促进芯片产业发展的关键因素。政府应加大对芯片产业的支持力度，提供更多的科研经费和政策优惠，鼓励企业进行技术创新和产业升级。同时，政府还应加强对知识产权保护的力度，从而为芯片产业的发展创造良好的环境。

7，天玑720相当于骁龙多少

天玑720相当于骁龙765G，天玑720采用了台积电7nm制程工艺，拥有两颗A76大核+六颗A55小核设计,频率均为2.0GHz,GPU采用了Mail-G57架构,并采用了集成式的5G基带设计，不仅支持NSA/SA组网模式，同时还支持5G双载波和MediaTek专属的5G双载波和MediaTek专属的5GUltraSave省电技术，可以让5G续航拥有更好的表现。天玑720处理器还支持最高90Hz屏幕刷新率，支持多种视频优化功能，比如动态范围的重新映射；摄像头方面最高可支持600万像素摄像头以及2000万像素+1600像素双摄组合，并且集成了MediaTek APU(AI处理器) ,可以提供一系列AI相机增强功能。天玑720相当于骁龙765G，骁龙765G采用了台积电7nm制程工艺, EUV是采用波长13.5nm的极紫外线光刻技术，可以在SoC硅基上进行更为精密的光刻，实现更小的沟道。比主流193nm波长光源，光刻分辨率提升了约3.3倍。让处理器可以集成更多晶体管，或者说相同晶体管数量下芯片面积更小。骁龙765G处理器采用了先进的7nmEUV工艺，它采用了三簇群Kyro 475 CPU设计，包含1个2.4GHz Cortex-A76大核心、1个2.2GHz Cortex-A76中核心、6个1.8GHz Cortex-A55核心。并且采用了第5代高通AI引擎，而GPU则是Adreno620。另外，骁龙765G还支持2×16bit LPDDR4x RAM，频率2133MHz。骁龙765G对5G网络也有很好的支持。联发科天玑720的大核心主频为2.0GHz，GPU是Mali-G57，采用A76的构架。天玑800的单核成绩为523分，多核心成绩2193分。很明显由于天玑800的大核心主频也是2.0GHz，所以两款芯片差距不大，但由于天玑720在小核心主频和其它地方的缩水，导致综合跑分低于天玑800不少。

8，中国首台7纳米光刻机

国产最先进光刻机第一，目前全球最先进的光刻机，已经实现5nm的目标。这是荷兰ASML实现的。而ASML也不是自己一家就能够完成，而是国际合作才能实现的。其中，制造光源的设备来自美国公司；镜片，则是来源于德国的蔡司公司等。这也是全球技术的综合作用。第二，中国进口最先进的光刻机，是7nm。2018年，中芯国际向荷兰ASML公司定制了一台7nm工艺的EUV光刻机，当时预交了1.2亿美元的定金。请注意，当时这台机器还没有交付，而是下订单。但国内市场上，其实已经有7nm光刻机。在2018年12月，SK海力士无锡工厂进口了中国首台7nm光刻机。海力士也是ASML的股东之一。第三，目前国产最先进的光刻机，应该是22nm。根据媒体报道，在2018年11月29日，国家重大科研装备研制项目“超分辨光刻装备研制”通过验收。该光刻机由中国科学院光电技术研究所研制，光刻分辨力达到22纳米。请注意该报道的标题：“重大突破，国产22纳米光刻机通过验收。”也就是22nm的光刻机，已经是重大突破。22nm的光刻机，关键部件已经基本上实现了国产化。“中科院光电所此次通过验收的表面等离子体超分辨光刻装备，打破了传统路线格局，形成一条全新的纳米光学光刻技术路线，具有完全自主知识产权。”有关报道中的“全新的技术”，也就是中国科研工作者在关键部件完全国产化情况下，实现的这一次技术突破中国和世界顶尖光刻机制造还有很大差距。华为麒麟受制于人，中芯国际不堪大用，澎湃芯片久不见进展，虎愤芯片勉强能用。实用更是有很远的路要走。大家放平心态。国产最新光刻机多少纳米;?????国产芯中国“芯”!如果没有华为在通信科技领域的异军突起直接威胁到西方发达国家的核心利益，美国也不会如此丧心病狂的用一个国家的力量对付一个企业，当然我们老百姓也不会去关注芯片这个原本属于科技领域的事情。如今在中国的大街小巷和餐馆排挡，要说什么话题最火，那莫过于“华为5G”和“芯片”这两个话题了。??????人们除了惊讶于我国的科技水平居然已经达到了这种地步的时候，也在为我国什么时候才能突破高端芯片的技术封锁而着急。毕竟我们很多人都知道，我国在错过了第一次、第二次工业革命之后，就落后挨打了两百多年的时间，所以每人都都很清楚下一波工业革命的重要性。恰好华为5G的全球领先让我们看到了中国不仅能够赶上第四次工业革命，甚至很大程度上还有引领第四次工业革命的可能，每个人都兴奋不已。??????但是目前，我们不得不认识到我国在半导体集成电路方面还和西方发达国家及企业有着不小的差距。在这个节骨眼上，偏偏美国又开始歇斯底里的打击中国科技企业，企图拖慢整个中国的半导体领域发展进程，因此我们很着急，我国何时才能突破芯片的技术封锁呢???????当然，着急是不解决任何问题的，如果着急有用的话，还要那些科研工作者和科学家干什么呢?我们一方面在着急的同时，也得清楚的认识到，即便在西方国家合力封锁我国芯片技术的背景下，我国自己的科技企业，还是取得了突破性的研究结果。??????比如我国现有享誉世界的北斗全球定位导航卫星，其中所用的三号芯片现在已经成功的打破了22nm的上限，上海微电子也在当前大背景下加班加点的研制出了能够生产22nm的光刻机。这个消息让全国的科技圈都十分的振奋。??????国产光刻机突破22纳米，差距还很大，为啥科研人员如此兴奋???????有不明所以的网友会比较好奇，现在全球最顶尖的芯片是5nm制程技术，甚至连3nm制程的也已经在研发设计中，为什么我们才刚刚到22nm就让国内科研人员异常兴奋呢?原因其实很简单，打个比方在你极度饥饿的时候，别说给你一桌山珍海味了，就是给你一个平淡无奇的白面馒头你都能吃的津津有味!??????在上海微电子技术取得突破之前，我国国产的光刻机一直停留在只能制造90nm制程的芯片。这次我国直接从90nm突破到了22nm也就意味着我国在光刻机制造的一些关键核心领域上已经实现了国产化。而自己掌握核心技术有多重要自然不言而喻，在突破关键领域以后，更高阶的光刻机的研发速度只会越来越快。国产光刻机突破封锁，成功研制22nm光刻机，中国芯正在逐渐崛起。??????与此同时，西方发达国家的硅基芯片的制造已经接近了物理极限，“摩尔定律”正在逐渐的失效，我国的芯片技术又在不断的突围。此消彼长之下，我国芯片制造能力追平世界领先水平也只是时间问题而已，更何况我国也在同步研究更加具有竞争力的“碳基芯片”，如果一旦研制成功，我们甚至都不需要再依赖光刻机，那么西方国家的封锁手段也会随之土崩瓦解。??????所以，我们不能只是干着急，对于我国的芯片领域发展，还是要充满信心的。中国的光刻机达到了世界先进水平，但为何生产高端芯片依然困难重重？;018年12月，中微半导体设备有限公司自主研制的5纳米等离子体刻蚀机经台积电验证，性能优良，将用于全球首条5纳米制程生产线。5纳米，相当于头发丝直径的二万分之一，将成为集成电路芯片上的最小线宽。台积电计划2019年进行5纳米制程试产，预计2020年量产。▲半导体器件工艺制程从14纳米微缩到5纳，等离子蚀刻步骤会增加三倍刻蚀机是芯片制造的关键设备之一，曾一度是发达国家的出口管制产品。中微半导体联合创始人倪图强表示，中微与科林研发、应用材料、东京威力科创、日立全球先端科技4家美日企业，组成了国际第一梯队，为7纳米芯片生产线供应刻蚀机。中微半导体如今通过台积电验证的5纳米刻蚀机，预计能获得比7纳米更大的市场份额。中科院SP超分辨光刻机提问者所说的中国光刻机达到世界先进水平，应该是指2018年11月29日通过验收的，由中国科学院光电技术研究所主导、经过近七年艰苦攻关研制的“超分辨光刻装备”项目。该项目下研制的这台光刻机是“世界上首台分辨力最高的紫外超分辨光刻装备”。这是一种表面等离子体超分辨光刻装备。▲中科院研制成功并通过验收的SP光刻机该光刻机在365纳米光源波长下，单次曝光最高线宽分辨力达到22纳米。结合双重曝光技术后，未来还可用于制造10nm级别的芯片。▲中科院研发的光刻机镜头目前这个装备已制备出一系列纳米功能器件，包括大口径薄膜镜、超导纳米线单光子探测器、切伦科夫辐射器件、生化传感芯片、超表面成像器件等，也就是说，目前主要是一些光学等领域的器件。验证了该装备纳米功能器件加工能力，已达到实用化水平。▲中科院SP光刻机加工的样品然而，此次验收合格的中科院光电技术研究所的这台表面等离子超衍射光刻机的加工精度与ASML的光刻机没法比。没法用于刻几十纳米级的芯片，至少以现在的技术不能。据光电所专家称，该所研制成功的这种SP光刻机用于芯片制造上还需要攻克一系列的技术难题，目前距离还很遥远。也就是说中科院研制的这种光刻机不能用来光刻CPU。它的意义是用便宜光源实现较高的分辨率，用于一些特殊制造场景，很经济。总之，中科院的22纳米分辨率光刻机跟ASML垄断的光刻机不是一回事，说前者弯道超车，就好像说中国出了个竞走名将要超越博尔特。显然，中科院研制成功的这台“超分辨光刻装备”并不能说明我国在市场主流的的光刻机研制方面已经达到了世界先进水平，那么现阶段我国的光刻机的真实水平又是怎样的呢？且看以下对比。7纳米芯片量产的意义意味着中国芯片全面突破美国封锁。7纳米芯片量产，意味着中国芯片全面突破美国封锁。这是中国半导体产业胜利反击的辉煌一刻，更是中国制造、中国科技打破质疑，登鼎世界之巅的历史性一刻。7纳米制程不仅适用于PC、平板电脑和智能手机，还能为数据中心、汽车等未来形态的“终端”，以AI等新技术复杂的训练和推理提供助力，5G的到来对芯片质量的需求将越来越高。无论是现在备受关注的7纳米还是未来的5纳米、3纳米制程，摩尔定律的逐渐失效导致技术持续提升的成本投资会大幅提高，愿意加一把劲儿的参与者，将有机会跻身国际第一梯队。在这个机遇之窗下，中国芯片自主可控不再是遥不可及的梦想，中国半导体产业正在培养“国家队”，而培育出“国际队”的关键时间点，或许就从现在开始。中国台湾芯片制造企业台积电在其官方博客上宣布，今年7月，台积电生产了第10亿颗功能完好、没有缺陷的7纳米芯片，实现新里程碑。芯片从本质上说是一套集成电路，组成单位是晶体管，晶体管的尺寸越小，芯片上能容纳的晶体管数量就越多，制程也就越小。制程越小，在同样面积上集成的电路越复杂，电路的性能就越强，芯片的性能就越好。这一特点在智能手机上体现得尤为明显。智能手机在追求轻薄的同时，能实现能效的最大化，并且在同等的单位尺寸中可以放入更多的晶体管，就能为手机芯片的运算力提供支持，直接体现到用户端就是更强大的性能。当制程工艺发展到一定程度时，电路与电路之间的距离缩小到一定程度，就会出现量子隧穿效应，电子之间不可控的不规律运动会影响晶体管性能的发挥。这就意味着制造材料需要进行重新研发，需要充足的资金才能进行更新的工艺制程研发。其次，实现短距离制程的一个重要工具就是光刻机。7纳米制程在制造层面的实现离不开高性能光刻机的运行，而这种精密仪器制造成本高和制造时间长。目前世界顶级的光刻机是荷兰的ASML，它几乎垄断了高端领域的光刻机市场，市场份额高达80%以上。ASML新出的极紫外线光刻机可用于7纳米制程，价格高达1亿美元。除了ASML，其他光刻机供应商集中在美国和日本。最后，规模也是影响7纳米制程芯片量产的重要因素。正如台积电在官方博客中多次强调大批量生产一样，芯片生产讲究的是规模效应，前期投入的资金需要通过大量的芯片来平摊巨额的研发成本。同时芯片生产也是一种商业行为，企业追求的是利润，如果没有利润，生意也无法长久。不管多难，芯片制造工艺的提升都为终端和应用的使用感受带来质的飞跃。过去，只有少数几个应用程序要求尖端的芯片技术，而智能手机的普及提出了更多的需求，将领先的芯片带入了亿万消费者的口袋。随着云计算和人工智能的兴起，应用程序比以往任何时候都更多，7纳米制程不仅适用于PC、平板电脑和智能手机，还能为数据中心、汽车等未来形态的“终端”，以AI等新技术复杂的训练和推理提供助力，5G的到来对芯片质量的需求将越来越高。中国的光刻机是什么水平？与世界先进还有多大差距？如何追赶？中国光刻机距离世界先进水平，还有较大的差距。第一，目前全球最先进的光刻机，已经实现5nm的目标。这是荷兰ASML实现的。而ASML也不是自己一家就能够完成，而是国际合作才能实现的。其中，制造光源的设备来自美国公司；镜片，则是来源于德国的蔡司公司等。这也是全球技术的综合作用。第二，中国进口最先进的光刻机，是7nm。2018年，中芯国际向荷兰ASML公司定制了一台7nm工艺的EUV光刻机，当时预交了1.2亿美元的定金。请注意，当时这台机器还没有交付，而是下订单。但国内市场上，其实已经有7nm光刻机。在2018年12月，SK海力士无锡工厂进口了中国首台7nm光刻机。海力士也是ASML的股东之一。第三，目前国产最先进的光刻机，应该是22nm。根据媒体报道，在2018年11月29日，国家重大科研装备研制项目“超分辨光刻装备研制”通过验收。该光刻机由中国科学院光电技术研究所研制，光刻分辨力达到22纳米。请注意该报道的标题：“重大突破，国产22纳米光刻机通过验收。”也就是22nm的光刻机，已经是重大突破。22nm的光刻机，关键部件已经基本上实现了国产化。“中科院光电所此次通过验收的表面等离子体超分辨光刻装备，打破了传统路线格局，形成一条全新的纳米光学光刻技术路线，具有完全自主知识产权。”有关报道中的“全新的技术”，也就是中国科研工作者在关键部件完全国产化情况下，实现的这一次技术突破中国和世界顶尖光刻机制造还有很大差距。华为麒麟受制于人，中芯国际不堪大用，澎湃芯片久不见进展，虎愤芯片勉强能用。实用更是有很远的路要走。大家放平心态。

9，华为荣耀x1怎么样

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10，光刻机中国能造吗

暂时不能光刻机不是一项单一的技术，而是现代各项高科技技术的集成，成品背后需要无数的产业链支持，以中国现在的科技水平暂时还不能造出。当中国专家去荷兰阿斯麦尔公司参观光刻机的时候，阿斯麦尔的高管直接对中国的专家说：就算给你全套图纸，你们中国也造不出光刻机。很多中国人听到这句话都非常的气愤，凭什么中国就造不出光刻机？近年来关于国产光刻机弯道超车的新闻频繁在各类媒体中出现，国人想要在光刻机技术上超越欧美发达国家的爱国情怀可以理解，但部分媒体为了博取眼球对国产光刻机过分的吹捧，不尊重事实的报道对普通大众而言其实是一件特别不负责任的事情。理想很丰满，现实很骨感，以中国现在的科技水平确实造不出光刻机，光刻机不是一项单一的技术，而是现代各项高科技技术的集成，光刻机的内部十分复杂，可以说是人类知识集大成的产物之一，光刻机就像手机和汽车一样，是由无数的零配件组装合成的，最终实现某种功能，成品背后需要无数的产业链支持，各式各样的零配件都是行业内顶级的技术体现，没有长时间的深耕运作，国产光刻机在单一的某项技术上实现领先是没问题的，但是想要在整体上实现弯道超车，基本上不现实。举个例子：比如马拉松长跑比赛，第二名与第一名的差距相差3公里，在某一个时间段，第二名选手的速度超过了第一名选手，这仅仅代表着第二名选手最终有超越第一名选手的可能，但是3公里路程的巨大差距却不是一时半会可以赶上的，想要超越，时间跨度将非常大，因为你在努力向前跑的同时对手也在努力向前跑。荷兰阿斯麦尔之所以能够垄断全球最顶尖的光刻机市场，不是因为荷兰人聪明，单纯靠荷兰人也研发不出光刻机，光刻机的研发集合了全球优势资源加上半导体几十年的技术积累，最终在数以万计的专业的顶尖研发人员不断技术突破下才成功，荷兰的幸运在于目前只有荷兰掌握光刻机最核心的技术“侵入式光刻技术”，所以现在顶级光刻机只有荷兰有能力生产。技术是研发的外在体现，任何技术的突破都是厚积薄发的结果，光刻机需要的技术方向特别多，比如机械化层面，自动化层面，系统科学层面等一大堆方向都需要有人去攻关，有些地方是知道技术壁垒的，但是如何突破技术壁垒还没有头绪，有些地方连技术壁垒在什么地方都没找到，更别谈技术突破了，而且任何一项技术的突破都需要长年累月技术投入，资金投入，人员投入。技术积累并不是钱能够解决的，目前国内在光刻机领域做得比较好的是上海微电子装备和中科院的某个研究所，它们目前还停留在90nm研发产品阶段，而荷兰阿斯麦尔7nm的光刻机已经实现量产，当然这并不代表国产光刻机没有超越的机会，目前国内对光刻机的重视程度越来越高，大量的资金和顶尖的人才都在光刻机领域深耕研究。国产光刻机其实只要在某些关键技术上取得突破，就算得上是弯道超车了，就好比荷兰阿斯麦尔在光刻机“侵入式光刻技术”上领先全球一样，没有这项关键性技术，就无法制造更顶级的光刻机，所以目前只有荷兰才有资格制造顶级光刻机。

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